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MOSFET dv/dt能力及其失效模式

2025-06-03 09:26:06·  來源:電驅(qū)動Benchmarker  
 

一、MOSFET dv/dt能力及其失效模式


什么是MOSFET的dv/dt能力? 

當(dāng)MOSFET器件工作在高頻電路中時,漏-源極電壓會有很高的變化速率,dv/dt指的是MOSFET漏-源極所允許的電壓最高變化速率,若是超過這個速率就會導(dǎo)致器件燒毀失效。

失效模式

dv/dt失效通常發(fā)生在硬開關(guān)應(yīng)用中,其中兩個MOSFET用于半橋配置,如下圖。

高側(cè)和低側(cè)MOSFET交替導(dǎo)通和關(guān)斷,實(shí)現(xiàn)輸出電壓Vout在高低之間快速轉(zhuǎn)換。

當(dāng)高側(cè)和低側(cè)MOSFET交替導(dǎo)通和關(guān)斷頻率過快(開關(guān)速度過快)時,會產(chǎn)生較高的dv/dt。當(dāng)dv/dt大于低側(cè)MOSFET允許的最高電壓變化速率時,就會發(fā)生高側(cè)器件還未完全關(guān)閉,低側(cè)器件就已經(jīng)短暫導(dǎo)通現(xiàn)象,這時輸入電源與地短路,產(chǎn)生大電流將流過半橋使兩個器件燒毀。

dv/dt導(dǎo)致器件短暫導(dǎo)通模式主要有兩種:MOSFET器件開啟、寄生三極管(BJT)開啟。

1、 MOSFET器件開啟

在MOSFET的結(jié)構(gòu)中,存在寄生電容Cgd、電阻Rg,如下圖:

如上圖,當(dāng)器件漏極dv/dt過大時,由于Cgd電容的充放電,柵極會產(chǎn)生感應(yīng)電流I:

I=Cgd×dv/dt

由于柵電阻Rg的存在,電流I流過Rg會在柵極產(chǎn)生尖峰電壓Vgs:

Vgs=I×Rg= Cgd×dv/dt×Rg

當(dāng)柵極電壓Vgs超過器件的閾值電壓Vth時,器件將被迫導(dǎo)通,使器件燒毀。由上式可以得到電路所允許的最大頻率:

圖片

在此失效模式下,如果想提高M(jìn)OSFET器件dv/dt能力,可以通過降低柵電阻Rg,柵-漏電容Cgd以及提高器件閾值電壓VTH實(shí)現(xiàn)。VTH與環(huán)境溫度程負(fù)相關(guān),因此器件dv/dt能力隨溫度的升高而降低。

2、寄生三極管(BJT)開啟

在MOSFET的結(jié)構(gòu)中,存在寄生三極管(BJT)、電容Cds,如下圖:

如上圖,當(dāng)器件漏極dv/dt過大時,由于電容Cds的充放電,P-區(qū)會產(chǎn)生感應(yīng)電流Ib:

Ib=Cds×dv/dt

由于P-區(qū)電阻Rb的存在,電流Ib流過Rb會在兩端產(chǎn)生電壓差Vbe;

Vbe=Ib×Rb= Cds×dv/dt×Rb

當(dāng)Rb兩端電壓差Vbe大于三極管的開啟電壓Vbi時,寄生三極管開啟,使器件燒毀。由上式可以得到電路所允許的最大頻率:

圖片

在此失效模式下,如果想提高M(jìn)OSFET器件dv/dt能力,可以通過降低P-區(qū)電阻Rb、源-漏電容Cds實(shí)現(xiàn)。電阻Rb與環(huán)境溫度程正相關(guān),因此器件dv/dt能力隨溫度的升高而降低。


素材來源:功率半導(dǎo)體社

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